Control de temperatura e humidade, sala limpa

Control de temperatura e humidade, sala limpa,
,
 

A temperatura e a humidade da sala limpa determínanse principalmente segundo os requisitos do proceso, pero a condición de que se cumpran os requisitos do proceso, debe terse en conta o confort humano.Co aumento dos requisitos de limpeza do aire, hai unha tendencia a que o proceso teña requisitos cada vez máis estritos de temperatura e humidade.

A medida que a precisión de mecanizado é cada vez máis fina, os requisitos para o intervalo de flutuación de temperatura son cada vez máis pequenos.Por exemplo, no proceso de exposición á litografía da produción de circuítos integrados a gran escala, a diferenza entre o coeficiente de expansión térmica do vidro e da oblea de silicio como o material do diafragma é cada vez máis pequena.Unha oblea de silicio cun diámetro de 100 μm provocará unha expansión lineal de 0,24 μm cando a temperatura aumente 1 grao.Polo tanto, debe ter unha temperatura constante de ± 0,1 graos.Ao mesmo tempo, o valor de humidade é xeralmente baixo, porque despois de que unha persoa sude, o produto contaminarase, especialmente para os talleres de semicondutores que teñen medo ao sodio, este tipo de taller limpo non debe exceder os 25 graos.

A humidade excesiva causa máis problemas.Cando a humidade relativa supera o 55%, producirase condensación na parede do tubo de auga de refrixeración.Se ocorre nun dispositivo ou circuíto de precisión, provocará varios accidentes.É fácil de oxidar cando a humidade relativa é do 50%.Ademais, cando a humidade é demasiado alta, o po na superficie da oblea de silicio será adsorbido químicamente polas moléculas de auga no aire á superficie, que é difícil de eliminar.Canto maior sexa a humidade relativa, máis difícil é eliminar a adhesión, pero cando a humidade relativa é inferior ao 30%, as partículas tamén se adsorben facilmente na superficie debido á acción da forza electrostática e a un gran número de semicondutores. dispositivos son propensos a avarías.O mellor intervalo de temperatura para a produción de obleas de silicio é de 35 ~ 45%. O control da temperatura e da humidade é unha condición importante para a produción de talleres limpos, e a temperatura e humidade relativas son unha condición de control ambiental de uso habitual durante o funcionamento dos talleres limpos.
A temperatura e a humidade da sala limpa determínanse principalmente segundo os requisitos do proceso, pero a condición de que se cumpran os requisitos do proceso, debe terse en conta o confort humano.Co aumento dos requisitos de limpeza do aire, hai unha tendencia a que o proceso teña requisitos cada vez máis estritos de temperatura e humidade.